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【検査装置】
概要
CCDフォトマスク等の繰り返しパターンにおける、微細な線幅変動を高速・高感度に検査します。
概説
従来の検査方法である線幅測定等では検出することが不可 能か、非常に困難であった数nmの線幅変動を、特殊な光学系・アルゴリズムを開発することで非常に 高速に検出することが可能になりました。
SD-2000MK2を使用すると、各EB描画機の僅かなクセまでも可視化することが可能です。
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